中大研发「万能墨水」 简化高性能晶片生产过程及降生产成本

中大成功研发出一种「万能墨水」，配合单步激光直接写入技术，制作高性能晶片，大大减低生产成本及简化高性能晶片的生产过程，中大亦已为此项技术申请专利。

中大物理系助理教授杨森率领的研究团队指出，近年广泛应用的光刻技术，是目前生产高性能晶片的最先进方法。这项技术十分复杂，涉及多个繁琐制备过程，包括旋涂光胶、定位、光刻、显影、蒸镀、电镀、剥离等，并需要使用光刻仪、蒸镀仪等一系列高昂的仪器，大大增加生产成本及难度。另一方面，基于纳米金属颗粒沉积的激光直接写入技术，则受制于电学、力学及解析度，精确度有限。

研究团队经过一番筛选及尝试，发现中国传统书法和水墨画，以及钢笔中所用的碳素墨水，当中的碳纳米颗粒具有很好的光还原性和微小的尺寸，是「万能墨水」理想的半导体纳米颗粒。由碳素墨水制成的「万能墨水」成本低廉，并且可回收再用，减低对环境的污染。

杨森表示，这项新技术有两大优势，不但可以用多种材料制作复杂的图案，增加晶片的应用范围，更可配合光学测量仪器，以监控金属结构在沉积过程的精确度和质量，促进未来的晶片工业发展。杨又冀「万能墨水可以应用在更多领域的工业上，其团队将继续探讨及发展此项技术。」