美阻中國獲取晶片戰核心光刻機

（星島日報報道）美國近年在科技領域防堵中國，愈來愈注視中國對電腦晶片及其基礎技術的追求。《紐約時報》近日報道，荷蘭最先進的晶片生產工具光刻機，成為中美技術戰的核心 。前總統特朗普為了阻止中國「晶片崛起」，成功游說荷蘭半導體設備公司阿斯麥（ASML）停止把晶片生產工具EUV光刻機出售給中國，目前無迹象顯示現任總統拜登政府會改變此策略。

中國一直希望自主研發及生產先進晶片，但是無法取得製造先進晶片必須的「極紫外光微影系統」（EUV）光刻機。這種光刻機由荷蘭阿斯麥公司（ASML）全球獨家生產，包括台積電、三星和中國的半導體業領頭羊，都爭相向ASML訂購光刻機。《紐約時報》日前引述美國專家指出，中國若無法取得阿斯麥EUV光刻機，要創建自給自足的半導體產業有如天方夜譚。

前特朗普政府二○一九年成功游說荷蘭政府禁售光刻機給中國，無迹象顯示現任拜登政府會改變此策略。美國國家人工智能安全委員會在三月發送給眾議院和拜登的最終報告中指出，如果晶片生產主導權被中國奪走，中國可能會「竊取」美國和盟國的軍事、工業機密。二○一八年荷蘭政府批准阿斯麥向中國出口EUV光刻機後，特朗普政府採取行動阻止此事。

生產商使用晶片光刻技術，把晶片電路圖形投射到晶圓上，一個晶片上可放入愈小的晶體管等組件，其性能就愈強，可存數據就愈多。阿斯麥光刻機耗時數十年開發，一九九七年採用波長極小的極紫外線，使用了美國、日本和德國的技術和零件，創造出比傳統光刻更小的電路，於二○一七年開始大批量製造，每台EUV光刻機的售價為一億五千萬美元。這台複雜機器被公認為生產最先進晶片的必要工具，具備地緣政治的影響力。喬治城大學分析員亨特說，少了這個系統，製造商就無法生產頂級晶片。他估計，中國至少要十年才能製造類似機器。然而，阿斯麥行政總裁韋尼克四月表示，歐盟不應學美國那樣禁止出口尖端科技到中國：「如果對中國實施出口管制，就會逼他們落實『科技主權』。」